2024年，国内的光刻机技术和ASML还差多少？

jerkzhang

May 1, 2024

非微电子专业。仅说说自身看法：

1、感觉有很大差距，但是并非不可追赶；
2、一旦追赶成功，意义非凡，等于把整个光刻机制造的产业链完全国产化。

这个提问让我想起一段往事：

十多年前，网上看一个上海交大饮水思源论坛的非软件专业的博士在求助写一段代码，闲来无事帮他搞定了，大概也就是算法问题会复杂一点，但从个人角度来说是举手之劳。

不过没想到帮了这位博士生不小忙，后来博士生毕业后找到我，请喝一杯咖啡。

博士生是研发光刻机的，跟随一个大佬吧，具体我也不知道是谁，反正博士生说是被诺贝尔提名的大佬。然后聊了一些研发光刻机的难点问题。其实我也听的云里雾里，完全搞不懂。我只能听他把复杂的问题描述出来，然后我从我的角度给出解决思路；说实话，我觉得我说的肯定很浅薄，大概这是一段比较具有饭后闲聊意义的侃侃而谈吧，大概的意思就是他们在研发浸润式光刻机，曝光平台是来回极高速移动的，如何让水停留在投影物镜和晶圆间而不外流？因为我是外行，他大概的意思就是问，如何让一张桌子保持绝对水平？我当时给出的思路的是依靠陀螺仪去动态调整找平。毕竟是内行与外行之间的侃侃而谈。